反射膜厚測量儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設(shè)備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復(fù)測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強，在振動或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。

產(chǎn)品型號：LJ-FT50UV

更新時間：2026-03-12

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品牌	藍景	價格區(qū)間	10萬-20萬
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,綜合

非接觸無損檢測是藍景反射膜厚儀的核心優(yōu)勢之一。設(shè)備通過光學探頭發(fā)射光譜，接收膜層表面與界面的反射干涉信號，全程不接觸樣品表面，無機械壓力、無劃傷、無殘留，即使是超柔薄膜、微納結(jié)構(gòu)、精密涂層、貴重樣品，也能放心檢測，大幅降低樣品損耗率，節(jié)約生產(chǎn)成本。這一特性使其廣泛應(yīng)用于柔性屏、光學鏡片、醫(yī)用涂層、微機電系統(tǒng)（MEMS）等對樣品完整性要求極-高的場景。

一、產(chǎn)品簡介

反射膜厚測量儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設(shè)備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最-快每秒可測100次，重復(fù)測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強，在振動或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。

二、應(yīng)用領(lǐng)域

反射膜厚測量儀廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫(yī)學、汽車及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域，能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫(yī)用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求，助力各行業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與研發(fā)效率。

反射膜厚測量儀

三、測試原理

反射膜厚儀基于白光干涉原理工作，光源發(fā)出的寬帶光入射至待測薄膜表面后，經(jīng)薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產(chǎn)生干涉，干涉信號中包含薄膜厚度、光學常數(shù)等關(guān)鍵信息，設(shè)備通過探頭采集干涉后的反射光譜，對特定波段范圍內(nèi)的光譜進行模型擬合后，即可反演解析出薄膜的厚度、光學常數(shù)及粗糙度等參數(shù)，整個系統(tǒng)由高強度組合光源提供寬光譜入射光，經(jīng)光學系統(tǒng)傳輸至樣品，反射光返回后由高速光譜模塊采集信號，最終通過上位機軟件完成數(shù)據(jù)處理與結(jié)果輸出。
四、產(chǎn)品特點

1. 精準測量：支持20nm超薄膜厚檢測，準確度±1nm、重復(fù)精度0.05nm，滿足精密檢測需求；

2. 高速采樣：最-高采樣速度100Hz，適配產(chǎn)線快速檢測，提升測量效率；

3. 寬光譜覆蓋：采用氘鹵組合光源，光譜覆蓋紫外至近紅外，可解析單層/多層膜厚；

4. 強抗干擾性：高靈敏度元器件搭配抗干擾光學系統(tǒng)+多參數(shù)反演算法，復(fù)雜環(huán)境下測量穩(wěn)定；

5. 靈活易適配：支持自定義膜結(jié)構(gòu)測量，設(shè)備小巧易安裝，配套軟件及二次開發(fā)包，適配實驗室/產(chǎn)線多場景。

五、技術(shù)參數(shù)

型號	LJ-FT50UV	LJ-FT50NIR
建議工作距離	非聚焦光束，安裝距離5至10mm	安裝側(cè)面出光附加鏡時：34.5mm±2mm；軸向出光時：55mm±2mm；
測量角度	±10°	±5°
光斑類型	彌散光斑；在10mm安裝距離時，光斑直徑約為4mm；	聚焦光斑；約200μm
探頭外徑*長度	Φ6.35*3200mm3	Φ20*73mm
探頭重量	190g	108g（探頭）、49g（附加鏡）
光源類型	氘鹵光源	鹵素光源
波長范圍	190-1100nm	400-1100nm；1000-1700nm
測厚范圍	約20nm~50μm（折射率1.5時）	約50nm~50μm（折射率1.5時）
適配探頭	UV-VIS	VIS-NIR軸向； VIS-NIR徑向；（標配其一）
可連探頭數(shù)量	1
探頭防護等級	IP40
重復(fù)精度	0.05nm
準確度	<±1nm或±0.3%（取較大值）
采樣頻率	Max.100Hz（視求解參數(shù)復(fù)雜度而定）
測控軟件	專用上位機軟件
電源電壓	220V±20V50HzAC/
最-大功率	50W
工作溫度	-10至+40℃
相對濕度	20%至85%RH（無冷凝）
控制器重量	約5000g